特許

J-GLOBAL ID：200903081438107369

酸化物磁性材料組成物とその製造方法、ならびにインダクタ、積層チップインダクタ、および複合積層部品

発明者： 熊谷 好吉 ,  鈴木 孝志 ,  青木 卓也 ,  斎藤 論
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-231779
公開番号（公開出願番号）：特開平8-091919
出願日： 1994年09月27日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【構成】 本発明の酸化物磁性材料組成物は、焼成後のFe2O3換算で30〜52mol%のFeと、焼成後のNiO換算で5〜65mol%のNiと、焼成後のCuO換算で0〜30mol%のCuと、焼成後のZnO換算で0〜40mol%のZnと、焼成後のPbO換算で0.005〜6mol%のPbと、焼成後のCoO換算で0〜4mol%のCoと、焼成後のMgO換算で0〜5mol%のMgと、焼成後のSiO2換算で0〜10mol%のSiを含有するものである。【効果】 本発明の酸化物磁性材料組成物は、損失が小さく、また、これをインダクタ、積層チップインダクタおよび複合積層部品に用いた場合には、非常に高いQおよびLを得る事ができる。

請求項（抜粋）：

焼成後のFe2O3換算で30〜52mol%のFeと、焼成後のNiO換算で5〜65mol%のNiと、焼成後のCuO換算で0〜30mol%のCuと、焼成後のZnO換算で0〜40mol%のZnと、焼成後のPbO換算で0.005〜6mol%のPbと、焼成後のCoO換算で0〜4mol%のCoと、焼成後のMgO換算で0〜5mol%のMgと、焼成後のSiO2換算で0〜10mol%のSiを含有する酸化物磁性材料組成物。

IPC (5件)：

C04B 35/28 ,  C01G 49/00 ,  C04B 35/30 ,  H01F 1/34 ,  H01F 17/00

FI (3件)：

C04B 35/28 Z ,  C04B 35/30 C ,  H01F 1/34 B