特許
J-GLOBAL ID:200903081455875183
全反射の制御可能な減衰のための方法と装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-509011
公開番号(公開出願番号):特表2001-515224
出願日: 1998年05月08日
公開日(公表日): 2001年09月18日
要約:
【要約】界面(12)に入射する光(14)が全反射する反射状態と、上記界面(12)で全反射が防止される非反射状態との間で、界面(12)を制御可能に転換する方法及び装置。該装置は、界面に対し変形性である部材(10、好ましくはエラストマー)を有する。界面に隣接する上記部材の部分(18)における部材のヤング率は、界面から離れた上記部材の部分における部材のヤング率よりも実質的に大きい(即ち、より堅い)。界面に隣接した部材の硬化部分は微細構造(20)の形態でありうる。電源に接続された一対の電極(22、24)が提供され、連続的に変化しうる範囲の光学接触値内で、界面と光学接触するように部材を制御可能に変形し、選択可能に異なる程度の非反射状態を生じさせることができる。
請求項(抜粋):
界面(12)に入射する光(14)が全反射する反射状態と、上記界面(12)で全反射が防止される非反射状態との間で、界面(12)を制御可能に転換する装置であって、界面(12)に対し変形性である部材(10)を有し、界面(12)に隣接する上記部材の部分(18)における部材(10)のヤング率は、界面(12)から離れた上記部材(10)の部分における部材(10)のヤング率よりも実質的に大きいことを特徴とする装置。
IPC (4件):
G02B 26/08
, B29C 59/16
, B29D 11/00
, C08J 5/00
FI (4件):
G02B 26/08 D
, B29C 59/16
, B29D 11/00
, C08J 5/00
Fターム (24件):
2H041AA14
, 2H041AB26
, 2H041AB40
, 2H041AC06
, 2H041AZ03
, 2H041AZ08
, 4F071AA10
, 4F071AA67
, 4F071AF20
, 4F071AH19
, 4F209AA45
, 4F209AR13
, 4F209PA15
, 4F209PB01
, 4F209PC03
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F213AA45
, 4F213AR13
, 4F213WA12
, 4F213WA37
, 4F213WA87
, 4F213WB01
, 4F213WE25
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