特許

J-GLOBAL ID：200903081470423426

微粒子発生方法及び装置

発明者： 中東 孝浩 ,  桑原 創
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-056855
公開番号（公開出願番号）：特開平6-269659
出願日： 1993年03月17日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：

【要約】【目的】 熱CVD装置を応用した従来の微粒子発生方法及び装置に比べると、粒径の均一化された微粒子を効率良く発生させることができる微粒子発生方法及び装置を提供する。【構成】 マスフローコントローラ521、522、開閉弁531a、532a及びガス源541、542を含むガス供給部から微粒子生成用ガスを真空容器1内に導入して所定真空度のもとに該ガスに対し、任意波形発生器86及び高周波アンプ85を含む高周波電力印加装置から、高周波電力をパルス状に印加して、該ガスをプラズマ化するとともに目的とする微粒子を生成させる。

請求項（抜粋）：

微粒子生成用ガスを真空容器内に導入して所定真空度のもとに該ガスに対し高周波電力を印加して該ガスをプラズマ化するとともに目的とする微粒子を生成させ、前記高周波電力印加に際しては、該高周波電力をパルス状に供給することを特徴とする微粒子発生方法。

IPC (4件)：

B01J 19/08 ,  C01B 31/36 ,  C01B 33/00 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-269744
  
• 特開昭63-042377