特許

J-GLOBAL ID：200903081477960710

回転電極を用いた薄膜形成装置

発明者： 堂本 洋一 ,  平野 均 ,  蔵本 慶一 ,  樽井 久樹 ,  森 勇藏
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社 ,  森 勇藏
代理人 (1件)： 目次 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-360406
公開番号（公開出願番号）：特開平11-189877
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【課題】 回転電極1を用いた薄膜形成装置において、新たに供給する反応ガスを希釈ガスと迅速にかつ均一に混合することができ、これによって均一な薄膜を形成することができる薄膜形成装置を得る。【解決手段】 反応容器5内に設けた回転電極1に高周波電源4からの電力を印加することによりプラズマを発生させ、希釈ガスで希釈した反応ガスを分解させて基板2上に薄膜を形成する薄膜形成装置であり、反応容器5内のガスを排出し再び反応容器5内に戻すガス循環路10を設け、反応容器5内に供給する反応ガスをガス循環路10のガス導入口15から導入することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

反応容器内に設けた回転電極に高周波電力または直流電力を印加することによりプラズマを発生させ、希釈ガスで希釈した反応ガスを分解させて基板上に薄膜を形成する薄膜形成装置であって、前記反応容器内のガスを排出し再び前記反応容器内に戻すガス循環路を設け、前記反応容器内に供給する反応ガスを該ガス循環路から導入することを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04 V