特許
J-GLOBAL ID：200903081478566625
光受容部材の形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-135112
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324505
出願日： 1993年05月14日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】 電気特性、画像特性、耐久性の優れた光受容部材の形成装置を提供する。【構成】 減圧気相成長法により、円筒状の基体の表面にシリコン原子を母材とする非晶質材料からなる光受容層を形成する光受容部材の形成装置において、前記基体1002を装着する基体ホルダー1000の母材は、熱伝導度の大きな材料(a)1001aと、熱膨張係数および熱伝導度が小さい材料(b)1001bとからなり、少なくとも該基体1002と相対する部分は、前記材料(a)1001aで構成され、該基体ホルダー1000の上部または/及び下部は、材料(b)1001bで構成されていることを特徴とする光受容部材の形成装置。
請求項（抜粋）：
減圧気相成長法により、円筒状の基体の表面にシリコン原子を母材とする非晶質材料からなる光受容層を形成する光受容部材の形成装置において、前記基体を装着する基体ホルダーの母材は、熱伝導度の大きな材料(a)と、熱膨張係数および熱伝導度が小さい材料(b)とからなり、少なくとも該基体と相対する部分は、前記材料(a)で構成され、該基体ホルダーの上部または/及び下部は、材料(b)で構成されていることを特徴とする光受容部材の形成装置。
IPC (3件)：
G03G 5/08 360
, G03G 5/08 105
, C23C 16/44
