特許
J-GLOBAL ID：200903081479779720
印刷用プラスチックマスクの作製方法及びそのマスクを用いたペースト印刷方法並びに印刷用プラスチックマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
瀧野 秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-343976
公開番号（公開出願番号）：特開平8-238743
出願日： 1995年12月28日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【課題】 パターン状貫通開口部へのペーストの充填性や貫通開口部からのペーストの抜け性に優れ、特に微細パターンの高品位な印刷を行うことができる印刷用プラスチックマスクの作製方法、ペースト印刷方法及び印刷用プラスチックマスクを提供する。【解決手段】 プラスチック板1のビーム照射面と反対の面1bにエキシマレーザービーム2の少なくとも一部を吸収する高分子フィルム11を密着させてビーム照射面からエキシマレーザービーム2を照射する。次に、プラスチック板1にパターン状貫通開口部を形成したのち、高分子フィルム11を除去する。このようにして、薄膜残りやエッジ欠けを防止することができる。
請求項（抜粋）：
プラスチック板にエキシマレーザービームを照射して貫通開口部を形成する印刷用マスクの作製方法において、プラスチック板のビーム照射面と反対の面にエキシマレーザービームの少なくとも一部を吸収する高分子フィルムを密着させ、ビーム照射面にエキシマレーザービームを照射してプラスチック板に貫通開口部を形成したのち、高分子フィルムを除去することを特徴とする印刷用プラスチックマスクの作製方法。
IPC (4件)：
B41C 1/05
, B23K 26/18
, B32B 27/16
, B41N 1/24
B41C 1/05
, B23K 26/18
, B32B 27/16
, B41N 1/24
