特許

J-GLOBAL ID：200903081481446460

ヒ素化合物の除去方法及び吸着剤

発明者： 岩本 正和 ,  阿部 孝之 ,  北川 博一
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-356310
公開番号（公開出願番号）：特開2000-176441
出願日： 1998年12月15日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】 As濃度1000μmol/L以下の低濃度域でも高い吸着量を示すヒ素化合物の吸着除去剤を用いて、水中のヒ素化合物を容易かつ効率的に、極低濃度にまで吸着除去する。【解決手段】 水中のヒ素化合物をジルコニウム系メソ構造体からなる吸着剤と接触させるヒ素化合物の除去方法。ジルコニウム系メソ構造体からなるヒ素化合物用吸着剤。

請求項（抜粋）：

水中のヒ素化合物をジルコニウム系メソ構造体からなる吸着剤と接触させることを特徴とするヒ素化合物の除去方法。

IPC (3件)：

C02F 1/28 ,  B01D 15/00 ,  B01J 20/22

FI (3件)：

C02F 1/28 B ,  B01D 15/00 N ,  B01J 20/22 B

Fターム (17件)：

4D017AA01 ,  4D017BA13 ,  4D017CA11 ,  4D017CB01 ,  4D017DA07 ,  4D024AA02 ,  4D024AA05 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BA16 ,  4D024BB01 ,  4D024BC04 ,  4D024DB03 ,  4D024DB12 ,  4G066AA21B ,  4G066AB23B ,  4G066CA46

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭55-035949
  
• 特開昭58-024338
  
• ヒ素イオンの吸着除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-225746   出願人：工業技術院長

審査官引用 (2件)

• 特開昭55-035949
  
• 特開昭58-024338