特許

J-GLOBAL ID：200903081482946734

極低濃度放射化金属の回収方法

発明者： 板垣 乙未生 ,  日野 光久 ,  松田 謙治 ,  寺崎 聡 ,  八田 昌久 ,  溝口 研一
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-089878
公開番号（公開出願番号）：特開平8-285994
出願日： 1995年04月14日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、放射化されたCoやNiを乾式冶金技術によって、即ち溶融減容処理を兼ねて低減し、極低放射化金属を回収できるとともに、減容されたCo、Ni濃縮処理物を分別できる有効な方法の提供を目的とする。【構成】 本発明は、少なくとも放射性Co、Niなどの低濃度放射化金属を含むFe合金と、このFe合金中に18〜25重量%の割合でSiを含ませる量のSi材をSn溶湯、Pb溶湯、あるいは、Sn-Pb合金溶湯のいずれかの溶湯に溶解混合してSn相、Pb相、あるいは、Sn-Pb合金相の溶湯上に、前記低濃度放射化金属を更に極低濃度に調整したFe-Si合金相を浮上させて分離する工程を具備するものである。

請求項（抜粋）：

少なくとも放射性Co、Ni、Crなどの低濃度放射化金属を含むFe合金と、このFe合金中の(Fe+Cr+Si)に対して18〜25重量%の割合でSiを含ませる量のSi材をSn溶湯、Pb溶湯、あるいは、Sn-Pb合金溶湯のいずれかの溶湯に溶解混合してSn相、Pb相、あるいはSn-Pb合金相の溶湯上に、前記低濃度放射化金属を更に極低濃度に調整したFe-Si合金相を浮上させて分離する工程を具備することを特徴とする極低濃度放射化金属の回収方法。

IPC (5件)：

G21F 9/30 ,  G21F 9/30 ZAB ,  G21F 9/30 551 ,  C22B 23/02 ,  C22B 34/32

FI (5件)：

G21F 9/30 S ,  G21F 9/30 ZAB ,  G21F 9/30 551 E ,  C22B 23/02 ,  C22B 34/32