特許
J-GLOBAL ID：200903081488216711
高アスペクト比測定用検出システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-512665
公開番号（公開出願番号）：特表平9-507331
出願日： 1994年10月12日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：
【要約】コンタクトホールの様な高アスペクト比の構造に対する改良された技術が、一方が、サブミクロン構造の頂部の像を形成するのに最適化され、他方が同構造の底の像を形成するのに最適化された、2つの信号検出サブシステム(LD、UD)を利用する。これらの検出システム(LD、UD)は、共焦型光学顕微鏡で得られる「拡張焦点」に似ている像を生成するために実時間で組み合わされることが出来る信号を発生する。しかしながら、共焦型光学顕微鏡とは異なり、得られる像は、電子ビーム技術特有の線形性及び解像特性を有する。この新たなアプローチを使用すると、信号は、従来技術で典型である様に構造の底で略ゼロの最小値を示すのでは無く、構造の底で最大値を示し、外挿の必要無しに高精度の測定が可能になる。
請求項（抜粋）：
微小な高アスペクト比の構造の底付近の特徴に対応する像情報を抽出する方法であり、 一次電子ビームを前記構造に向け、 前記一次電子ビームが前記構造上に向けられる結果前記構造から放出された低い収率で高いエネルギーの電子と高い収率で低いエネルギーの電子とを区別し、 検出器を使用して、前記低い収率で高いエネルギーの電子を検出して、検出信号を発生し、 前記検出信号を使用して、前記構造の底付近の特徴に対応する像を発生する工程から成る方法。
IPC (3件)：
H01J 37/244
, G01B 15/00
, H01L 21/66
H01J 37/244
, G01B 15/00 B
, H01L 21/66 J
