特許
J-GLOBAL ID：200903081492601751
非酸化物系セラミック溶射皮膜を有する炭素材料およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 順三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-181524
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033567
出願日： 1993年07月22日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：
【要約】【目的】 窒化物および炭化物単体が保有する優れた機能を、窒化物または炭化物のセラミック溶射皮膜によって付与した炭素材料およびその有利な製造方法について提案する。【構成】 粒径が0.01〜1μmの窒化物または炭化物の微粒子を凝集させて形成した、粒径が3〜50μmの2次擬似粒子を用いるプラズマ溶射法によって、炭素材料の表面に直接、非酸化物系のセラミックを溶射被覆し、さらにその上に金属・合金および酸化物系, 非酸化物系のセラミックスの少なくとも1層即ち、を溶射被覆して積層する。
請求項（抜粋）：
炭素材料の表面に、直接溶射被覆した窒化物または炭化物のセラミック溶射皮膜をアンダーコートとして有し、さらにその上に金属・合金および酸化物系セラミックスの溶射皮膜の少なくとも1層以上をオーバーコートとして有することを特徴とする非酸化物系セラミック溶射皮膜を有する炭素材料。
IPC (3件)：
C04B 41/90
, C04B 41/87
, C23C 4/10
