特許
J-GLOBAL ID：200903081494860304
シロキサンポリマ皮膜形成方法および光導波路
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-421385
公開番号（公開出願番号）：特開2005-181638
出願日： 2003年12月18日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】 耐クラック性に優れ、温度サイクル,湿中試験等に対する信頼性に優れたシロキサンポリマ皮膜およびそれを用いた光導波路を得る。 【解決手段】 基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第1の工程を行なった後に、シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによってシロキサンポリマ皮膜中に残留したシラノール基の脱水重合反応を促進する第2の工程を行なうことを特徴とするシロキサンポリマ皮膜形成方法である。この形成方法によって得られるシロキサンポリマ皮膜およびこれを用いて製作される光導波路は、耐クラック性に優れ、温度サイクル,湿中試験等に対する信頼性に優れている。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板上に、シラノール基を含有するシロキサンポリマ皮膜形成用塗液組成物を塗布し、前記シラノール基同士を脱水重合させることによってシロキサンポリマ皮膜を形成する第1の工程を行なった後に、前記シロキサンポリマ皮膜を酸溶液に浸漬することによって前記シロキサンポリマ皮膜中に残留した前記シラノール基の脱水重合反応を促進する第2の工程を行なうことを特徴とするシロキサンポリマ皮膜形成方法。
IPC (3件)：
G02B6/12
, B05D7/24
, C09D183/04
G02B6/12 N
, B05D7/24 302Y
, C09D183/04
2H047PA28
, 2H047QA05
, 4D075BB26Y
, 4D075BB26Z
, 4D075BB64Y
, 4D075BB64Z
, 4D075BB76Y
, 4D075BB93Y
, 4D075BB93Z
, 4D075CA03
, 4D075CA13
, 4D075DA06
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB31
, 4D075DB53
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EB43
, 4D075EB47
, 4J038DL021
, 4J038DL031
, 4J038DL131
, 4J038HA416
, 4J246AA03
, 4J246AA18
, 4J246AB01
, 4J246AB11
, 4J246AB12
, 4J246AB13
, 4J246BA14X
, 4J246BA310
, 4J246BB010
, 4J246BB011
, 4J246BB012
, 4J246CA13X
, 4J246CA138
, 4J246CA24X
, 4J246CA248
, 4J246CA27X
, 4J246CA278
, 4J246CA348
, 4J246CA668
, 4J246FA022
, 4J246FA071
, 4J246FA101
, 4J246FB031
, 4J246FB032
, 4J246FB041
, 4J246FB051
, 4J246FB052
, 4J246FB081
, 4J246FB091
, 4J246FB221
, 4J246GA01
, 4J246GA02
, 4J246GB04
, 4J246GC02
, 4J246HA14
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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