特許
J-GLOBAL ID：200903081501683820
ガス処理装置、ガス処理方法、フッ化水素ガス供給装置、フッ化水素ガス供給方法、コンピュータ読取可能な記憶媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-142513
公開番号（公開出願番号）：特開2007-317696
出願日： 2006年05月23日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】 プロセスの再現性に優れるとともに、フッ化水素ガスを長期間安定して処理容器内に供給することが可能なガス処理装置を提供する。【解決手段】 COR装置5は、ウエハWを収容するチャンバー50と、水素を送給する水素送給ライン54bと、フッ素を送給するフッ素送給ライン55bと、水素送給ライン54bを流通する水素の流量を調整するマスフローコントローラ54cと、フッ素送給ライン55bを流通するフッ素の流量を調整するマスフローコントローラ55cと、水素送給ライン54bおよびフッ素送給ライン55bが接続され、水素送給ライン54bによって送給される水素とフッ素送給ライン55bによって送給されるフッ素とを反応させてフッ化水素ガスを生成する反応容器62と、反応容器62内で生成されたフッ化水素ガスをチャンバー50に供給するフッ化水素供給ライン61とを具備する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被処理体にフッ化水素ガスを含むガスを供給してガス処理を施すガス処理装置であって、
内部に被処理体が配置される処理容器と、
水素を送給する水素送給ラインと、
フッ素を送給するフッ素送給ラインと、
前記水素送給ラインを流通する水素の流量を制御する水素流量制御機構と、
前記フッ素送給ラインを流通するフッ素の流量を制御するフッ素流量制御機構と
を具備し、
前記水素送給ラインによって送給される水素と前記フッ素送給ラインによって送給されるフッ素とを反応させてフッ化水素ガスを生成し、生成されたフッ化水素ガスにより前記処理容器内の被処理体を処理することを特徴とするガス処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 201A
, C01B7/19 A
5F004AA14
, 5F004AA15
, 5F004BA19
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC03
, 5F004BC05
, 5F004BC06
, 5F004BC08
, 5F004DA00
, 5F004DA20
, 5F004DA23
, 5F004DA24
, 5F004DA25
, 5F004DB00
, 5F004DB03
, 5F004EA34
