特許
J-GLOBAL ID：200903081502442207
X線分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-259395
公開番号（公開出願番号）：特開平5-118999
出願日： 1991年10月07日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 X線ビーム照射位置と試料観察位置が所定距離隔てて設定され、且つ試料が所定距離を移動して、X線ビーム照射領域と試料観察領域を対応をとることにより、X線コリメータ及び試料観察手段のどちらも試料に接近させることが可能になって、X線スポット形状を小さく設定して、X線分析の空間分解能を向上させる。【構成】 光源11、ビームスプリッタ14、対物レンズ15、視準板16、撮像素子19等で構成される試料観察手段10がX線ビーム照射位置に対して所定距離隔てて配置されおり、視準板像の所定位置に試料の分析対象領域を導入した後、試料搬送手段が座標変位データ分の距離を精度良く搬送して、試料4をX線ビーム照射位置に精度良く位置決めする。
請求項（抜粋）：
X線ビーム発生器とX線コリメータを備えたX線ビーム照射手段、X線検出手段、試料観察手段及び試料搬送手段を備えたX線分析装置であって、X線ビーム照射位置と試料観察位置が所定距離隔てて設定され、且つ、試料が前記所定距離を移動することにより、前記試料上でのX線ビーム照射領域と試料観察領域を対応させることを特徴とするX線分析装置。
引用特許：
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