特許
J-GLOBAL ID:200903081506687034
4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体及び4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三枝 英二 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-270535
公開番号(公開出願番号):特開平10-114735
出願日: 1996年10月14日
公開日(公表日): 1998年05月06日
要約:
【要約】【課題】新規な4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体、及び4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体を高純度、高収率で収得できる新規な製造法を提供すること。【解決手段】一般式【化1】(式中、R1及びR2は水素原子、メチル基又はエチル基を示す。R3はアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。)で表される4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体、並びに上記4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体を、水素化分解することを特徴とする一般式【化2】(式中、R3は前記に同じ。)で表される4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンモノエーテル誘導体の製造法。
請求項(抜粋):
一般式【化1】(式中、R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、メチル基又はエチル基を示す。R3はアルキル基、アルケニル基又はシクロアルキル基を示す。)で表される4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホンジエーテル誘導体。
IPC (2件):
FI (2件):
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平4-352774
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特開平4-179579
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ジフェニルスルホン化合物の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-090121
出願人:日本曹達株式会社
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特開平4-210955
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審査官引用 (4件)