特許
J-GLOBAL ID:200903081513483584
光走査装置及びマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-370159
公開番号(公開出願番号):特開2001-183595
出願日: 1999年12月27日
公開日(公表日): 2001年07月06日
要約:
【要約】【課題】斜入射により発生するジッターを許容値以内とし、光偏向器の偏向面の倒れにより発生するジッターを小さく抑え、良好なる画像を得ることができる光走査装置及びマルチビーム光走査装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。【解決手段】光源手段からの光束を副走査断面内において光偏向器の偏向面に副走査断面内において斜め方向から入射させる入射光学系と偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系とを有し、被走査面上における主走査方向の記録密度をK、副走査断面内において各偏向面間の倒れ角度の最大の差分の絶対値をγ、副走査断面内において偏向面に入射する光束の入射角度をα、主走査断面内において光軸に対する最軸外光束の走査角度をθ、結像光学系の焦点距離をf、入射光学系の偏向面に対向する光軸を主走査断面内に投射したときの光軸と走査中心軸との成す角度をφとしたとき、条件式(1)を満足すること。
請求項(抜粋):
光源手段から出射した光束を副走査断面内において複数の偏向面を有する光偏向器の偏向面に副走査断面内において斜め方向から入射させる入射光学系と、該光偏向器の偏向面で反射偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、該被走査面上における主走査方向の記録密度をK(dpi)、副走査断面内において各偏向面間の倒れ角度の最大の差分の絶対値をγ、副走査断面内において該偏向面に入射する光束の入射角度をα、主走査断面内において該結像光学系の光軸に対する最軸外光束の走査角度をθ、該結像光学系の焦点距離をf、該入射光学系の偏向面に対向する光軸を主走査断面内に投射したときの光軸と、走査中心軸との成す角度をφとしたとき、【数1】なる条件を満足することを特徴とする光走査装置。
IPC (5件):
G02B 26/10
, G02B 26/10 102
, G02B 26/10 103
, B41J 2/44
, H04N 1/113
FI (6件):
G02B 26/10 D
, G02B 26/10 B
, G02B 26/10 102
, G02B 26/10 103
, B41J 3/00 D
, H04N 1/04 104 A
Fターム (20件):
2C362AA03
, 2C362AA13
, 2C362BA04
, 2C362BA58
, 2C362BA68
, 2C362BA69
, 2C362BA70
, 2H045AA01
, 2H045BA22
, 2H045BA32
, 2H045CA03
, 2H045DA02
, 2H045DA24
, 5C072AA03
, 5C072BA15
, 5C072CA06
, 5C072DA21
, 5C072HA06
, 5C072HA13
, 5C072XA01
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