特許
J-GLOBAL ID：200903081518020485
電子装置用基板の洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051221
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251799
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 基板を洗浄、乾燥した後、表面への微粒子状の物体の付着を抑えることのできる洗浄方法を提供する。【解決手段】 電子素子形成用の基板表面を、該基板から溶出した金属イオン、とりわけ鉛イオンと反応して水に不溶のキレート化合物を形成するキレート試薬を含む水溶液に接触させる工程と、該水溶液中に生成した前記水に不溶のキレート化合物を基板近傍から除去する工程よりなることを特徴とする、基板の洗浄方法。さらに前記洗浄方法を用いた電子源基板の製造方法。また前記製造方法にて製造された電子源基板を有する画像形成装置。
請求項（抜粋）：
水性洗浄液との接触状態で該水性洗浄液中へ金属イオンを溶出させる金属成分からなる部分を有する機能膜形成用の領域を含む電子素子形成用の基板表面を水性洗浄液で洗浄する方法において、前記基板表面に、前記金属イオンと反応して水に不溶のキレート化合物を形成し得るキレート試薬を含む水性洗浄液を接触させて該表面を洗浄する工程(a)と、 該基板表面から前記不溶のキレート化合物を含む水性洗浄液を除去する工程(b)とを有することを特徴とする基板表面の洗浄方法。
IPC (6件)：
H01J 31/12
, B08B 3/08
, C03C 23/00
, C11D 7/34
, H01J 9/02
, H01J 9/38
H01J 31/12 C
, B08B 3/08 A
, C03C 23/00 A
, C11D 7/34
, H01J 9/02 E
, H01J 9/38 A
