特許
J-GLOBAL ID：200903081521791034
半導体処理装置のロードロック室
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-337341
公開番号（公開出願番号）：特開平5-174776
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 一回の真空排気で複数のウエハを同時、および連続的に処理できる高スループットで小型の半導体処理装置のロードロック室を提供する。【構成】 ロードロック室内に複数のウエハカセットを搭載できる回転テ-ブルを設け、回転テ-ブルを回転して所定のカセットを所定のゲ-トバルブ前に移動して真空処理室に搬送し、回転テ-ブルの回転時にはカセットテ-ブルを傾けてウエハの飛び出しを防止する。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハを搭載したカセットを外部より出し入れするための第1のゲートバルブとを備えた半導体処理装置のロードロック室において、上記ロードロック室内に複数の上記カセットを搭載できる回転テーブルと、上記回転テーブルの停止位置を制御する制御装置とを備え、上記回転テーブルの回転位置を制御して上記回転テーブル上に複数の上記カセットを搭載するようにしたことを特徴とする半導体処理装置のロードロック室。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/56
, H01L 21/68
