特許

J-GLOBAL ID：200903081521944280

測定装置及び測定方法

発明者： 大内 千種
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-263969
公開番号（公開出願番号）：特開2002-071515
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】 複屈折のあるレンズのリターディションと複屈折により分離した波面の平均波面が測定できる波面測定装置を得ること【解決手段】 直線偏光を出射する光源手段と、該光源手段からの光束の偏光方位を互いに直立する2つの方位に切り替えて出射させる変更方位設定素子と、該偏光方位設定素子からの光束を被測定物と参照面を介した後合成する光合成手段と、該光合成手段を介して得られる干渉光のうち被測定物への入射光の変更と同じ偏光成分のみを通過させる偏光方位を切り替えて出射させる検光子と、該検光子を通過した光束の干渉情報を検光する撮像手段と、該偏光方位設定素子によって切り替えた2つの偏光状態の光束を用いたときに得られる波面情報より該被測定物の平均波面とリターディションを演算する演算手段と、を有すること。

請求項（抜粋）：

直線偏光を出射する光源手段と、該光源手段からの光束の偏光方位を少なくとも2つの方位に切り替えて出射させる偏光方位設定素子と、該偏光方位設定素子からの光束を被測定物と参照面を介した後合成する光合成手段と、該光合成手段を介して得られる干渉光のうち被測定物への入射光の偏光と同じ偏光成分のみを通過させる偏光方位を切り替えて出射させる検光子と、該検光子を通過した光束の干渉情報を検出する撮像手段と、該偏光方位設定素子によって切り替えた2つの偏光状態の光束を用いたときに得られる波面情報より該被測定物の平均波面とリターディションの内の少なくとも一方を演算する演算手段と、を有することを特徴とする測定装置。

IPC (3件)：

G01M 11/02 ,  G01B 11/24 ,  G01J 4/04

FI (4件)：

G01M 11/02 B ,  G01J 4/04 Z ,  G01B 11/24 D ,  G01B 11/24 K

Fターム (21件)：

2F065AA53 ,  2F065BB22 ,  2F065BB25 ,  2F065CC21 ,  2F065CC22 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065GG04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL19 ,  2F065LL33 ,  2F065LL34 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ42 ,  2G086HH06