特許

J-GLOBAL ID：200903081526761508

芳香族ポリエーテルスルホン樹脂溶液組成物およびそのフィルムの製造方法

発明者： 原田 博史 ,  佐藤 邦久
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-135256
公開番号（公開出願番号）：特開平10-324747
出願日： 1997年05月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：

【要約】【課題】 安定性に優れた芳香族ポリエーテルスルホン樹脂溶液組成物および高い耐熱性、表面平滑性、透明性、光学的等方性を有する芳香族ポリエーテルスルホン樹脂フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】 下記の繰り返し構造単位 化1および化2からなる共重合体であって、繰り返し構造単位 化2を10〜70モル%含む芳香族ポリエーテルスルホン樹脂を溶媒に溶解してなる芳香族ポリエーテルスルホン樹脂溶液組成物は安定で、この溶液組成物を用いて溶液キャスト法により製膜すると、高い耐熱性、表面平滑性、透明性を有する芳香族ポリエーテルスルホン樹脂フィルムが容易に得られる。【化1】(-Ph-SO2 -Ph-O-)【化2】(-Ph-SO2 -Ph-O-A-O-)なお、式中のPhはパラフェニレン基を、Aは4,4’-ビフェニレン基などを表す。

請求項（抜粋）：

繰り返し構造単位 化1および化2からなる共重合体であって、繰り返し構造単位 化2を10〜70モル%含む芳香族ポリエーテルスルホン樹脂を溶媒に溶解してなる芳香族ポリエーテルスルホン樹脂溶液組成物。【化1】(-Ph-SO2 -Ph-O-)【化2】(-Ph-SO2 -Ph-O-A-O-)(化1および化2の式中、Phはパラフェニレン基を、Aは次式 化3または化4を表す。)【化3】(式中、nは1〜4の整数を表す。)【化4】(式中、Bは炭素数1〜3のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子を、mは1〜3の整数を表す。)

IPC (5件)：

C08G 75/23 ,  C08J 5/18 CEZ ,  G02B 1/04 ,  G02B 5/30 ,  C08L 81:06

FI (4件)：

C08G 75/23 ,  C08J 5/18 CEZ ,  G02B 1/04 ,  G02B 5/30