特許

J-GLOBAL ID：200903081546826940

Al系スパッタリング用タ-ゲット材の組織微細化方法

発明者： 高島 洋
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-382108
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214261
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】 組織偏析と粗大な化合物の形成を防止できるAl系ターゲット材の組織微細化方法を提供する。【解決手段】 遷移元素から選択される元素のいずれか1種または2種以上を10原子%以下含み、前記遷移元素として3A族元素を必須として含有し、残部実質的にAlからなる合金溶湯を急冷処理することにより、ターゲット組織中の化合物を微細に分散形成させるAl系スパッタリング用ターゲット材の組織微細化方法を適用する。

請求項（抜粋）：

遷移元素から選択される元素のいずれか1種または2種以上を10原子%以下含み、前記遷移元素として3A族元素を必須として含有し、残部実質的にAlからなる合金溶湯を急冷処理することにより、ターゲット組織中の化合物を微細に分散形成させることを特徴とするAl系スパッタリング用ターゲット材の組織微細化方法。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301

FI (3件)：

C23C 14/34 A ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/285 301 L

引用特許：

審査官引用 (1件)

• Al系スパッタリング用タ-ゲット材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-114391   出願人：日立金属株式会社