特許

J-GLOBAL ID：200903081554205203

基板上に複数の流体層を塗布する方法

発明者： バーブ,アパーナ・ブイ ,  イェイペル,ロバート・エイ ,  ウォレス,ローレンス・ビー ,  ミルボーン,トーマス・エム
出願人/特許権者： ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-534352
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509733
出願日： 1997年12月09日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】第一流体層(80)、第二流体層(82)および第三流体層(84)を同時にスライド塗布する時、滲み出しによって生じる塗布欠陥を最小化する方法。本発明の方法は、第一溶質が第二および第三溶質と相溶しないように、そして、第一流体が、スライド表面(53)と第二、第三流体との間に位置を定められた時に、スライド表面に対する第二および第三流体の少なくとも一つの滲み出しを最小化するように、第一、第二および第三流体(55,60,66)を調製することを含む。本発明は作像、データ記憶、および他の媒体を調製するのに有用である。

請求項（抜粋）：

第一流体層は第一溶質および第一溶剤を含む第一流体(55)で作られており、第二流体層は第二溶質および第二溶剤を含む第二流体(60)で作られており、および第三流体層は第三溶質および第三溶剤を含む第三流体(66)で作られており、並びに、少なくとも第一流体層(80)、第二流体層(82)および第三流体層(84)を同時にスライド塗布する時、滲み出しによって起される塗布欠陥を最小化する方法において、 第一密度を持つ第一流体を調製するステップ、 第二流体を調製し、そこでは第二溶質は第一溶質と相溶せず、および第二流体は第二密度を持つステップ、 第三流体を調製し、そこでは第三溶質は第一溶質と相溶せず、および第三流体は第三密度を持つステップ、 第一スライド表面(53)上に第一流体層を創造するために第一スライド表面を下って第一流体を流し、第一スライド表面は基板(18)の近傍に位置を定められるステップ、 第一スライド表面上に第二流体層を創造するために、第二流体が第二スライド表面(53)から第一スライド表面の上へ第一流体層上に流れるように、第一スライド表面に対して位置を定められた第二スライド表面を下って第二流体を流すステップ、 第一スライド表面上に第三流体層を創造するために、第三流体が第三スライド表面から第二スライド表面の上へ第二流体層上に流れ、および第三流体が第二スライド表面の上から第一スライド表面の上へ流れるように、第一スライド表面および第二スライド表面に対して位置を定められた第三スライド表面を下って第三流体を流すステップ、を有し、 ここで、第一密度は、少なくとも第二および第三流体の一つの第一スライド表面に対する滲み出しを最小化するために、第二および第三密度よりも十分大きい、方法。

IPC (5件)：

B05D 1/26 ,  G03C 1/74 ,  G03C 1/74 351 ,  G03F 7/16 ,  G11B 5/842

FI (5件)：

B05D 1/26 Z ,  G03C 1/74 ,  G03C 1/74 351 ,  G03F 7/16 ,  G11B 5/842 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭56-108566
  
• 感光材料の塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346189   出願人：コニカ株式会社