特許

J-GLOBAL ID：200903081559511221

露光用マスク

発明者： 小島 明 ,  川平 博一 ,  野澤 悟
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211481
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067405
出願日： 1991年07月29日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：

【要約】【目的】基板面に遮光膜を形成する場合に生ずる反りによるパターンずれの問題を容易に解決した露光用マスクを提供するものである。【構成】基板10面の周辺部に遮光膜2を有する露光用マスク1において、周辺部の遮光膜2をスリット3等を用いて分割したことを特徴とする露光用マスク、またはこの露光用マスクをネガパターンマスクに構成し、ポジパターンマスクとの重ね合わせ精度を高める構成とした露光用マスク。

請求項（抜粋）：

基板面の周辺部に遮光膜を有する露光用マスクにおいて、前記周辺部の遮光膜を分割したことを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-095554
  
• 特開昭58-091635
  
• 特開平1-173718