特許
J-GLOBAL ID:200903081566064893

断層撮影方法およびX線CT装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-064199
公開番号(公開出願番号):特開平10-258047
出願日: 1997年03月18日
公開日(公表日): 1998年09月29日
要約:
【要約】【課題】 能率良く穿刺を行うための断層撮影方法およびX線CT装置を実現する。【解決手段】 穿刺中の被検体の断層像を撮影するX線CT装置であって、隣合う少なくとも2つのスライスについて被検体の断層像をそれぞれ撮影する撮影手段1,20と、2つの断層像における関心領域の平均画素値が互いに均衡するように、被検体に対する2つのスライスの位置を調節するスライス位置調節手段3,4,10とを具備する。
請求項(抜粋):
穿刺針で穿刺された被検体の断層像を撮影する断層撮影方法であって、隣合う少なくとも2つのスライスについて被検体の断層像をそれぞれ撮影し、それら断層像における関心領域の平均画素値が互いに均衡するように、被検体に対する前記隣合う少なくとも2つのスライスの位置を相対的に調節する、ことを特徴とする断層撮影方法。
IPC (3件):
A61B 6/03 320 ,  A61B 6/03 331 ,  A61B 6/12
FI (3件):
A61B 6/03 320 Y ,  A61B 6/03 331 ,  A61B 6/12

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