空気中可溶性ガス除去装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：遠山勉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066545
公開番号（公開出願番号）：特開平9-253442
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：

【要約】【課題】気液接触式の空気中可溶性ガス除去装置の除去効率を高く安定維持する。【解決手段】外気が流通するチャンバー1内に純水供給系2のスプレーノズル5を設置する。純水タンク3の純水をスプレーノズル5からチャンバー1内に噴霧する。チャンバー1内で外気と接触し外気中の可溶性ガスを溶解させた純水をピット1aに溜め、回収ポンプ6によって純水タンク3に回収する。制御弁9を備えた純水供給系8を純水タンク3に接続し、制御弁11を備えた純水排水系10を純水タンク3の下部に接続する。純水タンク3内の純水をサンプリング管13を介して連続的にサンプリングし、水質制御器12でアンモニウムイオン濃度を検出し、その検出値に基づいて制御弁9、11の開閉を制御する。

請求項（抜粋）：

(イ)可溶性ガスを含む被処理空気が流通する空気流路と、(ロ)吸収液を空気流路内に供給し、吸収液と被処理空気とを気液接触させて被処理空気中の可溶性ガスを吸収液中に溶解させ、可溶性ガスが溶存する吸収液を回収して再び空気流路内に供給する吸収液循環系と、(ハ)吸収液循環系に新しい吸収液を供給する吸収液供給系と(ニ)吸収液循環系から吸収液を排出する吸収液排出系と、(ホ)吸収液循環系の吸収液中の特定イオンの濃度を検出し、検出された特定イオンの濃度に基いて吸収液供給系と吸収液排出系を制御して吸収液循環系の吸収液中の特定イオンの濃度を所定値以下にする制御手段と、を備えたことを特徴とする空気中可溶性ガス除去装置。

IPC (2件)：

B01D 53/14 , B01D 47/06

FI (2件)：

B01D 53/14 C , B01D 47/06 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭61-265431
特開昭61-265431
特開昭61-265431

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