特許
J-GLOBAL ID:200903081583430801

構造化顔料コーティング、その製造方法およびその使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 正夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-116268
公開番号(公開出願番号):特開平9-003362
出願日: 1996年05月10日
公開日(公表日): 1997年01月07日
要約:
【要約】 (修正有)【解決手段】基質の表面上に、下記式(I)または(II)またはその誘導体(式中、Aはキナクリドン、アントラキノンなどの発色団の残基であり、そしてPcはフタロシアニン系の発色団である)の1種またはそれ以上の顔料からなる少なくとも1つの顔料コーティングが工程(a)と(b)とによって付与される方法。(a)基質を、下記式(III)または(IV)の潜在顔料またはその誘導体の溶液または溶融物を用いてコーティングし、(b)基D3 とD4 を除去することによってそれらを水素で置換するかまたは基L1 とL2 を除去することによって該潜在顔料を部分的または完全にその不溶性顔料形態に変換する。【効果】カラーフィルターまたはデジタル情報の永久保存のためのその使用、ならびにその材料に保存されたデジタル情報を、光源で照射しそして反射されたまたは透過された光ビームの濃度を測定することによって読み出す方法。
請求項(抜粋):
基質の表面上に、下記式(I)または(II) またはその誘導体【化1】(式中、Aはキナクリドン、アントラキノン、ペリレン、インジゴ、アゾ、キノフタロン、イソインドリノン、イソインドリン、ジオキサジン、フタロシアニンまたはジケトピロロピロール系の発色団の残基であり、これはD1 およびx個のD2 に結合された複数個の窒素原子を含有しており、Aの中に存在する各窒素原子は互いに独立的に0、1または2個の基D1 またはD2 に結合されていることができる、D1 とD2 とは水素であり、xは0乃至4の整数であり、そしてPcはフタロシアニン系の発色団である)の1種またはそれ以上の顔料からなる顔料コーティングの少なくとも1つが存在している基質を含有する材料の製造方法において、該コーティングが下記工程(a)と(b)とによって付与されることを特徴とする方法(a)基質を、下記式(III)【化2】の潜在顔料またはその誘導体の少なくとも1種の、または下記式(IV)【化3】の潜在顔料またはそれらの誘導体、またはそれらの位置異性体の少なくとも1種の溶液または溶融物を用いてコーティングし[上記式(III) 中のAとxとは式(I)の場合と同じ意味を有し、AはD3 およびx個のD4 に結合された複数個の窒素原子を含有しており、Aの中に存在する各窒素原子は互いに独立的に0、1または2個の基D3 またはD4 に結合されていることができる、D3 とD4 とは互いに独立的に下記式のいずれかの基である、【化4】そして式(IV)中のL1 およびL2 は互いに独立的にハロゲン、C1-C18アルコキシ、C2-C18ジアルキルアミノ、C1-C18シクロアルキルアミノ、C1-C6 アルキルピペリジノまたはモルホリノであり、Mは2個の水素原子または少なくとも二価の金属原子である]、そして(b)基D3 およびD4 を除去することによってそれらを水素で置換するか、または基L1 およびL2 を除去することによって該潜在顔料を部分的または完全にその不溶性顔料形態に転換する〔上記式(Va),(Vb)および(Vc)において、m,nおよびpは互いに独立的に0または1の数であり、XはC1-C14アルキレン、C2-C14アルケニレン、C2-C14アルキニレン、C4-C12シクロアルキレンまたはC4-C12シクロアルケニレンであり、Yは基-V-(CH2)q-であり,Zは基-V-(CH2)r-であり,VはC3-C6 シクロアルキレンであり、qは1乃至6の数であり、そして、rは0乃至6の数であり、R1とR2とは互いに独立的に水素、C1-C6 アルキル、C1-C4 アルコキシ、ハロ ゲン、CN、NO2 、置換されていないか、またはC1-C4 アルキル、C1-C4 アルコキシま たはハロゲンによって置換されたフェニル、またはフェノキシであり、Qは水素、CN、Si(R1)3、基(R5)(R6)(R7)(ここにおいて、R5、R6およびR7は互いに独立的に水素またはハロゲンであり、そして基R5、R6およびR7のうちの少なくとも1つはハロゲンである)、下記式の基【化5】(式中、R1とR2とは前記に定義した通りである)、基SO2 R8またはSR8(ここにおいて、R8はC1-C4 アルキルである)、基CH(R9)2 (ここにおいて、R9は置換されていないか、またはC1-C4 アルキル、C1-C4 アルコキシまたはハロゲンによって置換されたフェニルである)、または下記式のいずれかの基であり、【化6】R3とR4とは互いに独立的に水素、C1-C18アルキル、または下記式の基【化7】(式中、X、Y、R1、R2、mおよびnは上記に定義した通りである)であるか、またはR3とR4とはそれらが結合している窒素原子と一緒でピロリジニル、ピペリジルまたはモルホリニル基を形成する〕。
IPC (6件):
C09D 5/00 PSD ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/06 ,  B05D 7/24 301 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/20
FI (6件):
C09D 5/00 PSD ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/06 ,  B05D 7/24 301 ,  G02B 5/20 ,  G02B 1/10 Z

前のページに戻る