特許
J-GLOBAL ID:200903081584562264

排ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 昌久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-201517
公開番号(公開出願番号):特開2001-025643
出願日: 1999年07月15日
公開日(公表日): 2001年01月30日
要約:
【要約】【課題】 回転駆動される筒状の触媒充填層にほぼ直交するように排ガスを流して、該排ガスの除塵、脱硝、脱硫を行なうようにした排ガス処理装置において、装置の構造を複雑化することなく、排ガス入口側の処理ゾーン及び排ガス出口側の処理ゾーンにおける空塔速度を最適速度に設定可能として、高効率の排ガス処理動作をなし得る排ガス処理装置を提供すること。【解決手段】 回転駆動される筒体の内部に触媒粒子の充填層を設けるとともに、該筒体の外周面に向けて直角方向に開口する排ガス入口及び排ガス出口を夫々設け、前記筒体を回転させながら、排ガスを前記排ガス入口から筒体内の触媒充填層を通して触媒と接触させた後、排ガス出口に導出するようにした排ガス処理装置において、前記排ガス入口及び排ガス出口と前記筒体とは、該排ガス入口から前記筒体に流入する排ガスの速度が該筒体から排ガス出口に流出する排ガスの速度よりも大きくなるように構成されて、煤塵粗取りゾーンの空塔速度を小さくする。
請求項(抜粋):
回転駆動される筒体の内部に触媒粒子の充填層を設けるとともに、該筒体の軸心にほぼ直交する方向で、かつ該筒体の外周面に向けて開口する排ガス入口及び排ガス出口を夫々設け、前記筒体を回転させながら、排ガスを前記排ガス入口から前記筒体内に導き、該筒体内の触媒充填層を通して触媒と接触させた後、排ガス出口に導出するようにした排ガス処理装置において、前記排ガス入口及び排ガス出口と前記筒体とは、該排ガス入口から前記筒体に流入する排ガスの速度が該筒体から排ガス出口に流出する排ガスの速度よりも大きくなるように構成されてなることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (5件):
B01D 53/94 ,  B01D 46/30 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/96
FI (6件):
B01D 53/36 101 A ,  B01D 46/30 Z ,  B01D 46/30 C ,  B01D 53/36 K ,  B01D 53/36 ZAB D ,  B01D 53/36 102 E
Fターム (28件):
4D048AA02 ,  4D048AA03 ,  4D048AA06 ,  4D048AC10 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA10X ,  4D048BA13X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048BB01 ,  4D048BD10 ,  4D048CA07 ,  4D048CB05 ,  4D048CC24 ,  4D048CC38 ,  4D048CC61 ,  4D048CD03 ,  4D058JA60 ,  4D058JA70 ,  4D058JB06 ,  4D058JB33 ,  4D058KA18 ,  4D058KA23 ,  4D058QA01 ,  4D058QA03 ,  4D058QA11 ,  4D058TA06

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