閾値マトリックス、及びそれを使用した階調再現方法とその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155106
公開番号（公開出願番号）：特開2000-059626
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】小型のマスクでドット分布の一様性に優れた高画質な画像を得ることができるとともに、高精細プリンタにおいてもマスクサイズを大きくする必要が無く、マスクを記憶しておくためのメモリ容量を小さくすることができる閾値マトリックス、及びそれを使用した階調再現方法とその装置を提供する。【解決手段】閾値マトリックスにより階調処理され生成されるドットパターンが、(1)各要素マスクに対応する各要素画素区画内のドットの分布が全階調で全く同じとなる要素画素区画の組を持ち、(2)1階調目以降の低階調のうちのいずれかの階調において弱い不規則性、または、擬似周期性が導入され、(3)すべての階調で、すべての要素画素区画内のドットの数が等しく、 (4)4n (n は整数) 階調毎に、各要素画素区画を四等分した大きさを持つ四つの部分要素画素区画内のドットの数がすべて等しくなるように、閾値マトリックスを形成する。

請求項（抜粋）：

原画の各画素と閾値マトリックス(マスク)の各要素とを1対1に対応させて出力画の個々の画素における濃度を二値あるいは多値で表現する階調再現方法において、基準となる大きさの画素区画より小さいサイズのマスクを用いて前記基準となる大きさの画素区画内に生成するドットパターンがすべての階調で非青色ノイズ特性を持ち、かつ、入力画像を階調処理し、およそ600dpi以上の精細度を持つ出力装置により出力した場合に、出力画像に、視覚的に好ましくない程のコントラストを有するモアレやマスク自体に起因する一定の繰り返しパターン等の虚像が発生しないことを特徴とする階調再現方法。

IPC (4件)：

H04N 1/405 , B41J 2/52 , B41J 5/30 , G06T 5/00

FI (4件)：

H04N 1/40 C , B41J 5/30 Z , B41J 3/00 A , G06F 15/68 320 A

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