特許
J-GLOBAL ID：200903081614717985
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
棚井 澄雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369340
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167347
出願日： 2001年12月03日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：
【要約】【課題】 解像性に優れ、しかも孤立レジストパターンの焦点深度幅の向上、及び近接効果の抑制を可能にした、化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位を主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、有機溶剤(C)に溶解してなるポジ型レジスト組成物である。樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a1)、ラクトン含有単環又は多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a3)、及びこれら単位(a1)、単位(a2)、単位(a3)以外の多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a4)を含む共重合体である。
請求項（抜粋）：
(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位を主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、有機溶剤(C)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a1)、ラクトン含有単環又は多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a3)、及びこれら単位(a1)、単位(a2)、単位(a3)以外の多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a4)を含む共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601
, C08F220/18
, C08F220/28
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F220/18
, C08F220/28
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100BA03R
, 4J100BA11Q
, 4J100BA20P
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC09S
, 4J100BC12P
, 4J100BC12S
, 4J100BC53Q
, 4J100CA06
, 4J100JA38
