特許

J-GLOBAL ID：200903081616746354

集束イオンビーム装置

発明者： 大西 毅 ,  小池 英己
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303926
公開番号（公開出願番号）：特開平11-144669
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】イオン源交換周期が長く、ランニングコストが低いFIB装置を実現する。【解決手段】加工を開始する前に加工終了後のイオン放出状態(ON or OFF)を登録する処理を行い、該加工の終了後にイオン放出が登録された状態に設定されるようにする。

請求項（抜粋）：

イオンを放出する手段、該イオンの放出をON/OFFする手段、イオンを試料上に集束する手段、イオン光軸に対して試料を移動させる手段、試料上の特定領域をビーム走査して加工を行う手段を備えた装置であって、該加工を開始する前に加工終了後のイオン放出状態(ON or OFF)を登録する処理を行い、該加工の終了後にイオン放出が登録された状態に設定される事を特徴とする集束イオンビーム装置。