特許

J-GLOBAL ID：200903081616998558

レーザビーム描画装置

発明者： 安間 康浩 ,  市川 智徳
出願人/特許権者： 富士電気化学株式会社
代理人 (1件)： 岡田 守弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-207639
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061562
出願日： 1992年08月04日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、レーザビームを用いて描画するレーザビーム描画装置に関し、複数の線パターンを同時描画できるレーザビーム描画装置を提供することを目的とする。【構成】 レーザビームを強度変調する光強度変調素子4と、レーザビームを偏向する光回折角度変調素子5と、レーザビームを試料表面12に照射する対物レンズ11とを備え、レーザから放射されたレーザビームを複数に分け、これら分けた各レーザビームについて光強度変調素子4によって強度変調および光回折角度変調素子5によって角度変調した後、これらのレーザビームを対物レンズ11によって試料表面12の異なる位置に同時に照射し、パターンを同時描画するように構成する。

請求項（抜粋）：

レーザビームを用いて描画するレーザビーム描画装置において、レーザビームを強度変調する光強度変調素子(4)と、レーザビームを偏向する光回折角度変調素子(5)と、レーザビームを試料表面(12)に照射する対物レンズ(11)とを備え、レーザから放射されたレーザビームを複数に分け、これら分けた各レーザビームについて上記光強度変調素子(4)によって強度変調および上記光回折角度変調素子(5)によって角度変調した後、これらのレーザビームを上記対物レンズ(11)によって試料表面(12)の異なる位置に同時に照射し、パターンを同時描画するように構成したことを特徴とするレーザビーム描画装置。

IPC (5件)：

H01S 3/101 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/10