特許
J-GLOBAL ID:200903081627286738

親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 晃
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-536841
公開番号(公開出願番号):特表2008-516075
出願日: 2005年10月13日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
本開示は、商業用途に好適な親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの改良された効率的かつ効果的な製造システムおよび製造方法と、それにより製造されて得られる商業用途に好適な親水性ポリエーテルスルホン・メンブランと、に関し、疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを準備する操作と、十分に低い表面張力を有する十分量の液体中で疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを予め湿潤させる操作と、湿潤状態の疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを十分量の酸化剤水溶液に暴露する操作と、暴露する操作の後、十分な温度で十分な時間の間疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを加熱する操作と、を含む親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの製造方法と、ゲル・ポリエーテルスルホン・メンブランを準備する操作と、ゲル・ポリエーテルスルホン・メンブランを十分量の酸化剤水溶液に暴露する操作と、暴露する操作の後、十分な温度で十分な時間の間疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを加熱する操作と、を含む親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの製造方法と、得られる生成物と、を包含する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを準備する操作と、 十分に低い表面張力を有する十分量の液体中で前記疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを予め湿潤させる操作と、 湿潤状態の前記疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを十分量の酸化剤水溶液に暴露する操作と、 前記暴露する操作の後、十分な温度で十分な時間の間前記疎水性ポリエーテルスルホン・メンブランを加熱する操作と、 を含む、親水性ポリエーテルスルホン・メンブランの製造方法。
IPC (1件):
C08J 7/12
FI (1件):
C08J7/12 A
Fターム (8件):
4F073AA01 ,  4F073BA32 ,  4F073BB01 ,  4F073EA01 ,  4F073EA21 ,  4F073EA52 ,  4F073EA53 ,  4F073EA57

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