特許

J-GLOBAL ID：200903081637697990

プラズマ処理方法及びその装置

発明者： 山内 健資
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-320002
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144071
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】エッチング開口率が低くても正確にエッチング処理などのプラズマ処理の終点を検出すること。【解決手段】高周波電源6と整合器5との間にプローブ7を接続し、コンピュータ10の終点検出手段11によってプローブ7によりモニタされる電圧と電流との比(電圧/電流又は電流/電圧)を求め、この電圧と電流との比の波形の変化から被処理体3に対するエッチングの終点を検出する。

請求項（抜粋）：

チャンバに対して整合器を介して高周波電力を供給して、前記チャンバ内にプラズマを発生させて被処理体に対するプラズマ処理を行うプラズマ処理方法において、前記高周波電源と前記整合器との間で前記チャンバに供給される電気量をモニタし、このモニタされた電気量に基づいて前記被処理体に対するプラズマ処理状況を検出することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

C23F 4/00 F ,  H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 E

Fターム (11件)：

4K057DA14 ,  4K057DD03 ,  4K057DG15 ,  4K057DJ01 ,  4K057DM03 ,  4K057DM33 ,  5F004AA16 ,  5F004BA08 ,  5F004CA03 ,  5F004CB07 ,  5F004CB16