特許
J-GLOBAL ID：200903081638950850

RI標識化合物合成システム

発明者：
佐々木 基仁

佐々木 基仁 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-155136
公開番号（公開出願番号）：特開2005-337815
出願日： 2004年05月25日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 RI化合物の連続製造が可能なRI標識化合物合成システム1を提供することを目的とする。【解決手段】 RI標識化合物合成システム1によれば、一つのRI原料合成部3に対応してRI化合物製造部7を複数設け、標識前駆体を導入するRI化合物製造部7を切り換えることで、他のRI化合物製造部7を次々に利用することを可能とすると共に一のRI化合物製造部7の交換あるいは放射能を減衰させている際に、他のRI化合物製造部7を利用することを可能とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
放射性同位元素を用いて、標識前駆体を合成するRI原料合成部と、前記標識前駆体、試薬が導入され、放射性同位元素標識化合物を製造するRI化合物製造部と、を備えるRI標識化合物合成システムであって、 前記RI原料合成部に対応して、複数の前記RI化合物製造部が設けられ、 前記標識前駆体が導入される前記RI化合物製造部を選択的に切り換える切換手段を備えていることを特徴とするRI標識化合物合成システム。
IPC (4件)：
G21F7/06 ,  G01T1/161 ,  G21F3/00 ,  G21F7/015
FI (4件)：
G21F7/06 R ,  G01T1/161 Z ,  G21F3/00 S ,  G21F7/015
Fターム (8件)：
2G088EE02 ,  2G088FF07 ,  2G088HH06 ,  2G088JJ29 ,  2G088JJ35 ,  2G088JJ36 ,  2G088JJ37 ,  2G088LL26
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM