特許

J-GLOBAL ID：200903081646006410

ポリマーラテックスの使用に基づくゴムシリカマスターバッチの製造方法

発明者： ペーター ヴェントリング ,  ロルフ ペーター ,  アーティ オーガスト コスキー
出願人/特許権者： バイエル インコーポレイテッド ,  バイエル アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-515748
公開番号（公開出願番号）：特表2003-506549
出願日： 2000年08月07日
公開日（公表日）： 2003年02月18日
要約：

【要約】本発明は、ラテックスから誘導されたポリマーに基づく充填されたポリマーマスターバッチ、およびその製造方法に関する。本発明の一つの実施態様において、本発明は粒子、特に親水性であり、表面ヒドロキシル基を有する鉱物粒子、たとえば、シリカ、シリケート、粘土、アルミナ、二酸化チタン等の疎水化に関する。しかしながら、本発明は、非鉱物粒子、すなわちカーボンブラックの処理にも関する。本発明の他の実施態様において、さらに、本発明は、充填されたポリマーラテックス、特にシリカ充填されたポリマーラテックスに関する。他の実施態様において、本発明はシリカ-ゴムマスターバッチおよびその製造方法に関する。

請求項（抜粋）：

組成物の製造方法において、(1)粒子を、式I 【化1】[式中、R1、R2およびR3の少なくとも一つはヒドロキシル基かまたは加水分解基であり;R4はSi-R4結合で加水分解抵抗性の二価の基であり;R5は水素;C1〜40アルキル;C2〜40モノ-、ジ-またはトリ-不飽和アルケニル基;C6〜40アリール基;式 【化2】の基、その際、xは2〜10の整数であり、R13およびR14は同一かまたは異なっていてもよく、それぞれ水素、C1〜18アルキル、C2〜18モノ-、ジ-またはトリ-不飽和アルケニル基、フェニル基であり;式 【化3】の基、その際、bは1〜10の整数であり;式 【化4】の基、その際、cは1〜10の整数であり、かつ、R22およびR23は同一かまたは異なっていてもよく、それぞれ水素、C1〜10アルキル基またはC2〜10アルケニル基であり、但し、窒素原子に対してα-位での二重結合はなく;式 【化5】の基、その際、rは1〜6の整数であり、かつ、dは1〜4の整数であり;R6は、R5に関して示された任意の基であってもよいか、あるいはR5およびR6は一緒になって、式 【化6】の二価の基を形成し、その際、Aは-CHRまたは-NR基から選択され、その際、Rは、水素またはC1〜40アルキル基またはC2〜40アルケニル基、C6〜40アリール基、水素原子および硫黄原子であり、tおよびvは互いに独立して、1、2、3または4であり、但し、tとvとの合計は6を上廻ることはない]の化合物またはその酸付加塩またはその第4アンモニウム塩と接触させ、かつ、(2)粒子と、式II 【化7】[式中、R15、R16およびR17は、R1、R2およびR3の同一の意味を有し;かつ、R12は、C8〜40アルキル基またはC8〜40モノ-、ジ-またはトリ-不飽和アルケニル基を含有する基から選択され、その際、これらは、一つまたはそれ以上のアリール基、好ましくはフェニル基によって中断されていてもよく;式 【化8】の基、その際、R18はSi-R18結合で加水分解抵抗性の二価の基であり、R19は、水素、C1〜40アルキル基、C2〜40モノ-、ジ-またはトリ-不飽和アルケニル基、置換された芳香族基、たとえば、フェニレン基-(C6H4)-、ビフェニレン基-(C6H4)-(C6H4)-、基-(C6H4)-O-(C6H4)-またはナフチレン基-(C10H6)-であり、その際、芳香族基は非置換かまたはC1〜20アルキルまたはC20モノ-、ジ-またはトリ-不飽和アルケニル基によって置換されていてもよく;R20は、R19に関する任意の基であってもよく、但し、R19とR20は、窒素原子と隣り合って第3級炭素原子を有しておらず、かつ、R19およびR20の少なくとも一つは、任意のヘテロ原子によって中断されていない、炭素原子少なくとも8個の炭素鎖を有する]の化合物またはその酸付加塩またはその第4アンモニウム塩と接触させ、(3)工程(1)および(2)の粒子と、一つまたはそれ以上のポリマーラテックスとを混合させ、プレブレンドを形成する工程を含むことを特徴とする、組成物の製造方法。

IPC (9件)：

C08L 21/02 ,  B60C 1/00 ZNA ,  C08J 3/22 CEQ ,  C08J 5/00 ,  C08K 9/04 ,  C09D 5/02 ,  C09D 7/12 ,  C09D121/00 ,  C09D201/00

FI (9件)：

C08L 21/02 ,  B60C 1/00 ZNA A ,  C08J 3/22 CEQ ,  C08J 5/00 ,  C08K 9/04 ,  C09D 5/02 ,  C09D 7/12 ,  C09D121/00 ,  C09D201/00

Fターム (49件)：

4F070AA05 ,  4F070AA06 ,  4F070AA07 ,  4F070AA08 ,  4F070AC23 ,  4F070AC52 ,  4F070AC53 ,  4F070AE01 ,  4F070FB03 ,  4F071AA11 ,  4F071AA12 ,  4F071AA13 ,  4F071AB26 ,  4F071AC12 ,  4F071AC16 ,  4F071AE17 ,  4F071AE18 ,  4F071BC07 ,  4J002AC011 ,  4J002AC031 ,  4J002AC071 ,  4J002AC081 ,  4J002AC091 ,  4J002BC031 ,  4J002BD041 ,  4J002BG051 ,  4J002BN151 ,  4J002DJ016 ,  4J002FB096 ,  4J002FB146 ,  4J002GH01 ,  4J002GN01 ,  4J038CA011 ,  4J038CA021 ,  4J038CA041 ,  4J038CA071 ,  4J038CA091 ,  4J038CC021 ,  4J038CC041 ,  4J038CC051 ,  4J038CD021 ,  4J038CG141 ,  4J038CR07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA15 ,  4J038KA08 ,  4J038KA20 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10