特許

J-GLOBAL ID：200903081652351099

ノルボルネン系ポリマー、その組成物、及び該組成物を使用するリソグラフィ法

発明者： ラリー エフ. ローズ ,  プラモッド カンダナラシチ ,  チュン チャン ,  ラリー シーガー ,  石塚 啓太 ,  遠藤 浩太朗 ,  安藤 友之
出願人/特許権者： プロメラス, エルエルシー ,  住友ベークライト株式会社 ,  東京応化工業株式会社
代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-047518
公開番号（公開出願番号）：特開2006-291177
出願日： 2006年02月23日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】マイクロ電子デバイス製造のための液浸リソグラフィに有用なポリマー、ポリマーの製造方法及びポリマーから成る組成物を提供すること。【解決手段】液浸リソグラフィプロセスに有用な非自己現像型及び現像型のノルボルネン系ポリマー、ノルボルネン系ポリマーの製造方法、ノルボルネン系ポリマーを使用する組成物を提供する。また、ノルボルネン系ポリマー組成物を使用する液浸リソグラフィプロセスに関する。液浸リソグラフィプロセスにおける現像層及びこのような現像層を被覆するためのトップコート層を形成するのに有用なノルボルネン系ポリマー及びそのプロセスに関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ノルボルネン型反復単位からなる非自己現像型ポリマーであって、式I:

IPC (7件)：

C08F 32/04 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

C08F32/04 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/11 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (59件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA01 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096DA01 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA05R ,  4J100BA07Q ,  4J100BA10Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA20R ,  4J100BA28P ,  4J100BA28Q ,  4J100BA28R ,  4J100BA58P ,  4J100BA58Q ,  4J100BA58R ,  4J100BB12Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38