特許

J-GLOBAL ID：200903081659623604

部分メツキ装置

発明者： 二木 和之 ,  宮ノ尾 善信
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-240946
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078886
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】 フープ材に形成された被メッキ部材またはフープ材の部分メッキ装置に関し、メッキ所要域に均一厚さの部分メッキ処理を施して生産性の向上を図ることを目的とする。【構成】 フープ材1に形成された被メッキ部材の先端部を含むメッキ所要域を固定したマスク窓81a から露出させ、該マスク窓81a に対面して位置するノズル45から陽極電位を持つメッキ液を噴出させてメッキ所要域に所定のメッキ処理を施す部分メッキ装置のマスク窓(81a) を、そのフープ材移動方向の開口長さが上記ノズル45が具備するアノード電極46とマスク窓81a から露出するメッキ所要域との間に流れる電流の電流密度と反比例するように該マスク窓81a の幅方向の対応する位置で異ならせて形成し、且つ該電流密度が最小である幅方向位置での上記開口長さを所要のメッキ厚を確保するに足る長さに形成して構成する。

請求項（抜粋）：

フープ材(1) に形成された被メッキ部材の先端部を含むメッキ所要域または該フープ材の端辺を含むメッキ所要域を固定されたマスク窓(81a) から露出させながら長手方向に移動する該フープ材(1) の該マスク窓(81a) から露出するメッキ所要域に、マスク窓(81a) に対面して位置するノズル(45)から陽極電位を持つメッキ液を噴出させ、該マスク窓(81a) に順次露出する上記メッキ所要域に連続して所定のメッキ処理を施す部分メッキ装置であって、前記マスク窓(81a) が、そのフープ材移動方向の開口長さを上記ノズル(45)が具備するアノード電極(46)とマスク窓(81a) から露出するメッキ所要域との間に流れる電流の電流密度と反比例するように該マスク窓(81a) のフープ材移動方向と直交する幅方向の対応する位置で異ならせて形成し、且つ該電流密度が最小である幅方向位置での上記開口長さが少なく共所要のメッキ厚を確保するに足る長さに形成されて構成されていることを特徴とした部分メッキ装置。