特許

J-GLOBAL ID：200903081659668268

液晶セル用スペーサの形成不良の検査方法

発明者： 山本 和光 ,  佐藤 行一
出願人/特許権者： 新エスティーアイ テクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 亀井 弘勝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-131060
公開番号（公開出願番号）：特開2001-311928
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 基板表面に形成された液晶セル用スペーサについて、その欠落の判定を自動的に精度よく行い、かつ、形状不良の判定を迅速に精度よく行うことのできる液晶セル用スペーサの形成不良の検査方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る液晶セル用スペーサの形成不良の検査方法は、表面にフォトリソグラフィ法によって形成された柱状スペーサを有する基板について、当該柱状スペーサが形成されている側の上方から、任意に選択された領域を撮像手段によって撮像し(ステップS3)、次いで、当該撮像手段によって得られた画像データを基にして所定領域内での柱状スペーサの有無を画像処理手段にて判別する(ステップS4)ことにより、スペーサ欠落の有無を判定することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

表面にフォトリソグラフィ法によって形成された柱状スペーサを有する基板について、当該柱状スペーサが形成されている側の上方から、任意に選択された領域を撮像手段によって撮像し、次いで、当該撮像手段によって得られた画像データを基にして所定領域内での柱状スペーサの有無を画像処理手段にて判別することにより、スペーサ欠落の有無を判定することを特徴とする、液晶セル用スペーサの形成不良の検査方法。

IPC (3件)：

G02F 1/13 101 ,  G01M 11/00 ,  G02F 1/1339 500

FI (3件)：

G02F 1/13 101 ,  G01M 11/00 T ,  G02F 1/1339 500

Fターム (17件)：

2G086EE10 ,  2H088FA11 ,  2H088HA01 ,  2H088HA12 ,  2H088HA14 ,  2H088KA01 ,  2H088MA17 ,  2H088MA20 ,  2H089LA09 ,  2H089NA14 ,  2H089QA12 ,  2H089QA14 ,  2H089QA16 ,  2H089SA17 ,  2H089TA01 ,  2H089TA12 ,  2H089TA13