特許

J-GLOBAL ID：200903081688301268

軟磁性多層膜およびこれを用いた磁気ヘッド

発明者： 大路 浩
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-105520
公開番号（公開出願番号）：特開平6-318516
出願日： 1993年05月06日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】 成膜直後から優れた軟磁気特性を有し、かつ、高温熱処理を施した後でも高い初透磁率を維持することができる軟磁性多層膜をうる。【構成】 Ni-Fe合金またはNi-Fe合金を主成分とする合金からなる下地膜とFeまたはFeを主成分とする合金からなる主磁性膜とが基板上に交互に積層された繰り返しによる周期構造を有する軟磁性多層膜であって、主磁性膜の1層当たりの膜厚が500nm以下であり、下地膜の1層当たりの膜厚が20nm以下であり、下地膜の1層当たりの膜厚に対する主磁性膜の1層当たりの膜厚の比が1以上であることを特徴とする軟磁性多層膜。

請求項（抜粋）：

Ni-Fe合金またはNi-Fe合金を主成分とする合金からなる下地膜とFeまたはFeを主成分とする合金からなる主磁性膜とが基板上に交互に積層された繰り返しによる周期構造を有する軟磁性多層膜であって、主磁性膜の1層当たりの膜厚が500nm以下であり、下地膜の1層当たりの膜厚が20nm以下であり、下地膜の1層当たりの膜厚に対する主磁性膜の1層当たりの膜厚の比が1以上であることを特徴とする軟磁性多層膜。

IPC (6件)：

H01F 10/14 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/23 ,  H01F 10/30 ,  H01F 41/20 ,  H01F 41/22