露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-345551
公開番号（公開出願番号）：特開2001-168000
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】投影系の残存収差を補正する光学補正板を投影光路中に付設しても、この光学補正板の付設による投影系の光学特性の悪化を良好に補正して、極めて高い結像性能に調整された投影系を備えた露光装置を製造する。【解決手段】レチクル(R)に形成された所定パターンの像を感光性基板(W)に投影露光するための投影系(PL)を提供する。レチクルが設定されるレチクル設定位置と感光性基板が設定される基板設定位置との間の所定位置に、投影系に残存する収差を補正する補正部材(G1)を設定する。そして、補正部材を所定位置に設定することに伴って発生する投影系の光学特性の悪化を補正する。この際、レチクル設定位置と基板設定位置との少なくとも一方を調整する。

請求項（抜粋）：

露光装置の製造方法において、レチクルに形成された所定パターンの像を感光性基板に投影露光するための投影系を提供する提供工程と、前記レチクルが設定されるレチクル設定位置と前記感光性基板が設定される基板設定位置との間の所定位置に、前記投影系に残存する収差を補正する補正部材を設定する設定工程と、前記補正部材を前記所定位置に設定することに伴って発生する前記投影系の光学特性の悪化を補正する補正工程と、を含み、前記補正工程は、前記レチクル設定位置と前記基板設定位置との少なくとも一方を調整する第1調整工程を含むことを特徴とする露光装置の製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A

Fターム (10件)：

5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA04 , 5F046CB19 , 5F046CB24 , 5F046CC16 , 5F046DA13 , 5F046DB05 , 5F046DB11 , 5F046DC12

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