特許

J-GLOBAL ID：200903081699501161

紫外線遮蔽回路基板の製造方法

発明者： 飯田 隆久
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-320318
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160532
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【構成】 エポキシ樹脂樹脂固形分に対して1-(フェニル)-3-(4-tert-ブチル-スチリル)-5-(4-tert- ブチル-フェニル)-ピラゾリン)又はビス-(1,5-ジフェニル-ピラゾリン-3-イル)スチレンなる蛍光塗料0.01重量%と2-(2'-ヒドロキシ-3'-tert-ブチル-5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール0.5重量%配合したワニスをガラス織布又はガラス不織布に含浸したプリプレグを少なくとも1枚用いることを特徴とする紫外線遮蔽回路基板の製造方法。【効果】 350〜450nmの光に対して、遮蔽効果が大きく積層板の両面に塗布されたフォトレジストを同時露光する場合、互いに他面のフォトレジストを露光するというトラブルを防止でき、ワニスに配合される蛍光染料の量は微量であり、積層板の外観(色相)も変ることなく、又製造コストも低減することができる。

請求項（抜粋）：

熱硬化性樹脂を含浸し乾燥したガラス織布又はガラス不織布基材等のガラス繊維基材を積層成形する積層板の製造方法において、樹脂固形分に対して下記の化学式(1)及び/又は(2)で示される蛍光塗料0.01〜1.0重量%と、300〜400nmに吸収ピークを示す紫外線吸収物質0.1〜5.0重量%を配合したワニスをガラス織布又はガラス不織布に含浸したプリプレグを少なくとも1枚用いることを特徴とする紫外線遮蔽回路基板の製造方法。【化1】(1-(フェニル)-3-(4-tert-ブチル-スチリル)-5-(4-tert-ブチル-フェニル)-ピラゾリン)【化2】(式中、Ar1〜Ar4はフェニル基又はC1〜C3のアルキル基置換フェニル基で、互いに同じでも異なっていてもよい。)

IPC (6件)：

H05K 1/03 ,  B29B 11/16 ,  B29B 15/08 ,  C08K 5/3445 KBJ ,  H05K 3/28 ,  B29K105:06