膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-052019
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240801
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】層間絶縁膜材料として、塗膜形成が可能で、塗膜の機械的強度、耐クラッチ性低吸湿性に優れ、かつ低比誘電率の塗膜形成用組成物を提供する。【解決手段】一般式(1)、(2)、(3)で表される化合物の少なくとも一種の加水分解あるいは縮合物(A)と、一般式(4)で表される化合物(B)を含有する組成物。(R1はフェニル基含有の一価の有機基、R2,R4,R5,R6,R7,R8は一価の有機基、R3は一価のアルキル基、R9は酸素原子或いは-(CH2)m-基、R10,R11,R12,R13,R14,R15は、水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、C数1〜20のアルコキシル基、またはハロゲン原子、aは1〜2、b,cは0〜2の整数、eは0または1、mは1〜6。)

請求項（抜粋）：

(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)(R1はフェニル基を含有する1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは1〜2の整数を表す。)および(A-2)下記一般式(2)で表される化合物R3bSi(OR4)4-b ・・・・・(2)(R3は1価のアルキル基を示し、R4は1価の有機基を示し、bは0〜2の整数を表す。)および/または(A-3)下記一般式(3) で表される化合物 R5c(R6O)3-cSi-(R9)e-Si(OR7)3-dR8d ・・・・・(3)(R5,R6,R7およびR8は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、cおよびdは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R9は酸素原子または-(CH2)m-で表される基を示し、mは1〜6を、eは0または1を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物の加水分解物および縮合物もしくはいずれか一方と(B)下記一般式(4)で表される化合物【化1】......・・(4)(R10、R11、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜20の炭化水素基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜20のアルコキシル基、またはハロゲン原子を示す。)を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (3件)：

C09D183/04 , C09D 5/25 , C09D183/02

FI (3件)：

C09D183/04 , C09D 5/25 , C09D183/02

Fターム (30件)：

4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038DL051 , 4J038DL071 , 4J038DL081 , 4J038DL111 , 4J038GA01 , 4J038GA02 , 4J038GA07 , 4J038GA09 , 4J038GA10 , 4J038GA12 , 4J038HA096 , 4J038HA336 , 4J038HA366 , 4J038JA04 , 4J038JA34 , 4J038JA38 , 4J038JA39 , 4J038JC13 , 4J038JC14 , 4J038JC32 , 4J038JC38 , 4J038KA03 , 4J038KA09 , 4J038MA14 , 4J038NA11 , 4J038NA21 , 4J038PB09 , 4J038PC01

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