特許
J-GLOBAL ID：200903081706892147
真空管の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-189848
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036347
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、小型化が可能で量産性を高めることを目的とする。【構成】 基板1主面上の真空室となる凹部2aの内壁に露出する電極1a,4,6を形成する工程、凹部2aの開口部を覆う蓋部8を形成する工程、真空蒸着により蓋部8と基板1との間を密閉する工程を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
真空室内に少なくとも陰極及び陽極を含む電極を備えた真空管の製造方法であって、(a)基板主面上の前記真空室となる凹部の内壁に露出する前記電極を形成する工程、(b)前記凹部の開口部を覆う蓋部を形成する工程、(c)真空蒸着により前記蓋部と基板との間を密閉する工程を有することを特徴とする真空管の製造方法。
IPC (2件)：
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