特許
J-GLOBAL ID:200903081707666957

レーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 義雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-149971
公開番号(公開出願番号):特開2000-340863
出願日: 1999年05月28日
公開日(公表日): 2000年12月08日
要約:
【要約】【課題】 レーザウィンドウ内面に汚染されたレーザ媒質が滞留することを防止し、このような汚染物質によるレーザウィンドウの性能低を防止すること。【解決手段】 ウィンドウホルダ3に設けた配管73からの清浄なレーザ媒質ガスは、一対のポート32a、32bに分岐されてウィンドウホルダ3の内部空間に供給される。第1ポート32aからシールド室SC中に吐出されたレーザ媒質ガスは、レーザウィンドウ4に沿って第2ポート32cに向かい、より負圧のベッセル2内部に環流する。この際、第1ポート32aが第2ポート32cにほぼ対向して配置されているので、第1ポート32aからの清浄なレーザ媒質ガスは、層流として各レーザウィンドウ4の内側面にほぼ沿って流れることになり、レーザウィンドウ4の内側面の近傍には常に清浄なレーザ媒質ガスが供給されることになる。
請求項(抜粋):
ガス状のレーザ媒質を収容するベッセルと、前記ベッセルの壁部に設けられるとともに、前記ベッセル内外にレーザ光を透過させるためのレーザウィンドウを端部に保持する筒状のウィンドウホルダと、前記ウィンドウホルダの側部に設けられて清浄化したガスを前記レーザウィンドウの内側面に供給する第1ポートと、前記ウィンドウホルダの側部の第1ポートに対向する位置に設けられて当該ウィンドウホルダ中のガスを排出する第2ポートとを備えるレーザ装置。
Fターム (6件):
5F071AA06 ,  5F071DD07 ,  5F071DD08 ,  5F071EE08 ,  5F071JJ03 ,  5F071JJ05

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