特許

J-GLOBAL ID：200903081730754308

熱処理炉用雰囲気ガス製造装置

発明者： 浅野 佳蔵 ,  加藤 雄一 ,  丹下 芳雄
出願人/特許権者： 大同プラント工業株式会社 ,  大同特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 乾 昌雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-204655
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033403
出願日： 1993年07月26日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：

【要約】【目的】 簡潔な装置により水素ガスを低コストで自家製造できる雰囲気ガス製造装置を提供する。【構成】 炭化水素を原料として吸熱形ガスを製造する吸熱形ガス発生装置2の発生ガス出口に、コンプレッサ3の吸込口を接続し、コンプレッサ3の吐出口を、N2 およびCOガスを吸着する吸着剤を内蔵するPSAガス分離装置4のガス入口に接続し、このPSAガス分離装置4の精製ガス出口を、光輝焼鈍炉40用の水素ガス貯槽5に接続するとともに、PSAガス分離装置4における吸着剤再生時に脱着されるガスを排出するガス排出口を、別個の焼鈍炉41に接続する。

請求項（抜粋）：

炭化水素を原料として吸熱形ガスを生成する吸熱形ガス発生装置の発生ガス出口に、コンプレツサの吸込口を接続し、このコンプレツサの吐出口を、前記吸熱形ガス中のH2 以外のガスを優先的に吸着する吸着剤を内蔵するPSAガス分離装置のガス入口に接続し、このPSAガス分離装置の精製ガス出口を、熱処理炉用の水素ガス貯槽に接続するとともに、前記PSAガス分離装置における吸着剤再生時に該吸着剤から脱着されるガスを排出するガス排出口を、前記熱処理炉とは別個の熱処理炉に接続したことを特徴とする熱処理炉用雰囲気ガス製造装置。

IPC (5件)：

C01B 3/38 ,  B01D 53/04 ,  B01J 7/00 ,  C01B 3/56 ,  C21D 1/76