特許
J-GLOBAL ID：200903081740647925
リソグラフィ用レーザ露光装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076076
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338869
出願日： 1989年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 高集積密度の高い64ビットDRAMに対応するパターン線巾0.3μmというサブミクロン単位の描画露光が可能となるリソグラフィ用レーザ露光装置を提供する事を目的とする。【解決手段】 略190〜300nm範囲より選択された特定紫外線波長域のレーザを石英ガラス製光学系を介してウエハ上に投影露光させながら回路パターンを描画するリソグラフィ用レーザ露光装置において、前記装置の光源にXeCl(308nm)、KrF(248nm)、若しくはArF(193nm)のエキシマレーザを用い、前記光学系の石英ガラス材の屈折率変動幅Δnを5×10-6より小に設定しつつ、更に脈理フリーの石英ガラス材を用いて、OH基濃度を100ppm以上存在させ各金属元素濃度を50ppb以下に設定した合成石英ガラス材を用いていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
略190〜300nm範囲より選択された特定紫外線波長域のレーザを石英ガラス製光学系を介してウエハ上に投影露光させながら回路パターンを描画するリソグラフィ用レーザ露光装置において、前記装置の光源にXeCl(308nm)、KrF(248nm)、若しくはArF(193nm)のエキシマレーザを用い、前記光学系の石英ガラス材の屈折率変動幅Δnを5×10-6より小に設定しつつ、更に脈理フリーの石英ガラス材を用いて、OH基濃度を100ppm以上存在させ各金属元素濃度を50ppb以下に設定した合成石英ガラス材を用いていることを特徴とするリソグラフィ用レーザ露光装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/00
, G03F 7/20 521
C03B 20/00 F
, C03C 3/06
, G02B 1/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 515 B
