特許

J-GLOBAL ID：200903081755662017

反射型マスク及びそれを用いた露光装置

発明者： 三宅 明 ,  渡辺 豊 ,  福田 恵明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-273197
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088355
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【目的】 放射ビームを用いた半導体素子製造用に好適な反射型マスク及びそれを用いた露光装置を得ること。【構成】 放射ビームの反射を利用してレジスト面に露光転写する為の回路パターンを有する反射型マスクにおいて、該回路パターンの一部に反射する放射ビームの位相を変化させる位相部材を設けたこと。

請求項（抜粋）：

放射ビームの反射を利用してレジスト面に露光転写する為の回路パターンを有する反射型マスクにおいて、該回路パターンの一部に反射する放射ビームの位相を変化させる位相部材を設けたことを特徴とする反射型マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 331 M