特許
J-GLOBAL ID:200903081781813228

自動処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 羽切 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-347816
公開番号(公開出願番号):特開平7-183267
出願日: 1993年12月24日
公開日(公表日): 1995年07月21日
要約:
【要約】【目的】 基板を保持手段により保持して処理槽内の処理液に浸漬して洗浄処理を行う自動処理装置において、該保持手段の乾燥を充分に、且つ、低コストにて、しかも清浄な環境を保ちつつ行うこと。【構成】 保持手段24を極くゆっくりと処理液から引き上げ、処理液がその表面張力により該保持手段から剥離するようになし、以て上記の効果を得ている。
請求項(抜粋):
複数枚の基板を保持手段により保持して所定経路に沿って搬送する搬送手段を有し、前記基板を前記所定経路内で処理槽内に貯留された処理液により浸漬処理を行い、前記保持手段を処理液から引き出す際の搬送速度が、該処理液がその表面張力によって前記保持手段から剥離して処理槽内に留まるように設定されていることを特徴とする自動処理装置。
IPC (5件):
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04 ,  B65G 49/04 ,  B65G 49/07
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-144132
  • 特開平4-317330
  • 特開平4-144132
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