特許

J-GLOBAL ID：200903081800670450

光学処理デバイス及び光学処理方法、撮影用カセッテ、線量計測モジュール、並びに放射線装置

発明者： ウーウェ・ウィードマン
出願人/特許権者： ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー
代理人 (1件)： 松本 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-106580
公開番号（公開出願番号）：特開2002-071820
出願日： 2001年04月05日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 画質を改善するためにX線から得られた光を処理するデバイスおよび方法する。【解決手段】 光放出体により放出される光のうち温度に依存しないスペクトルの第1の部分が保存され、かつ温度に依存するシフトを表している光スペクトルの第2の部分が阻止されるようなカットオフ周波数により光をフィルタリングする手段を設ける。本発明はさらに、このようなフィルタリング手段を含む撮影用カセッテ、線量計測モジュールおよび放射線装置を提供する。

請求項（抜粋）：

光放出体により放出される光のうち温度に依存しないスペクトルの第1の部分が保存され、かつ温度に依存するシフトを表している光スペクトルの第2の部分が阻止されるようなカットオフ周波数により光をフィルタリングする方法。

IPC (9件)：

G01T 1/20 ,  A61B 6/00 300 ,  G01T 1/00 ,  G01T 1/17 ,  G03B 42/02 ,  G03B 42/04 ,  G21K 4/00 ,  H01L 27/14 ,  H04N 5/321

FI (12件)：

G01T 1/20 J ,  G01T 1/20 E ,  G01T 1/20 H ,  A61B 6/00 300 W ,  G01T 1/00 B ,  G01T 1/17 C ,  G03B 42/02 B ,  G03B 42/02 F ,  G03B 42/04 A ,  G21K 4/00 A ,  H04N 5/321 ,  H01L 27/14 K

Fターム (47件)：

2G083AA02 ,  2G083CC02 ,  2G083CC06 ,  2G083CC09 ,  2G083CC10 ,  2G083DD02 ,  2G083DD13 ,  2G083DD14 ,  2G083DD16 ,  2G083DD17 ,  2G083EE02 ,  2G088EE01 ,  2G088FF02 ,  2G088FF19 ,  2G088GG16 ,  2G088GG18 ,  2G088GG19 ,  2G088GG20 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ08 ,  2G088JJ09 ,  2G088LL11 ,  2G088LL12 ,  2G088LL21 ,  2H013AC01 ,  2H013AC03 ,  2H013BA02 ,  4C093AA01 ,  4C093CA01 ,  4C093CA36 ,  4C093DA06 ,  4C093EB02 ,  4C093EB30 ,  4C093ED30 ,  4C093EE30 ,  4C093FD01 ,  4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118CB11 ,  4M118FA06 ,  4M118GA10 ,  5C024AX12 ,  5C024BX02 ,  5C024CX37 ,  5C024EX51 ,  5C024GY01