特許

J-GLOBAL ID：200903081837000411

非コンプレックス・ポリゴンを垂直スパンを用いて塗りつぶす方法及びシステム

発明者： ジェラルド・ポール・ポミクター、ジュニア
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-221062
公開番号（公開出願番号）：特開平6-195470
出願日： 1993年09月06日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】 垂直スパン走査方式を用ることができ、X EvenOdd規約を満たすような、非コンプレックス・ポリゴン輪郭の描画及び内部塗りつぶし技術を提供する。【構成】 画素の描画及び塗りつぶしを制御するために、3個の制御プレインを用いる。これらの制御プレインのうち、フィル制御プレイン46では、ポリゴン輪郭を構成する各垂直スパンの最初及び最後の画素に対応する位置のビットが塗りつぶされる。エッジ制御プレイン44では、ポリゴン輪郭の斜線エッジ上に中心を持つ画素、もしくは各々のエッジの始点及び終点に中心を持つ画素に対応する位置のビットが塗りつぶされる。Y方向プレイン42では、エッジ制御プレイン上で塗りつぶされた位置に対応する位置において、ビット塗りつぶすことで、エッジがY軸の正方向を向いているか負方向を向いているかを表す。これら3個の制御プレインの内容とポリゴン輪郭の描画の向きに従って、各々の垂直スパンを連続的に処理していくことで、ポリゴン内部の塗りつぶしがなされる。

請求項（抜粋）：

それぞれ1個以上の画素で表される1個以上のエッジで構成されると共に、N個の垂直スパンを有し且つ該N個の垂直スパンの各々に始点および終点があるポリゴン輪郭を、グラフィック・プロセッサにおいて描写する方法であって、第1プレイン上で、N-1個の垂直スパンの各々の始点及び終点を表す画素に対応する位置のビットを、第1の値に設定するステップと、第2プレイン上で、前記ポリゴン輪郭の各斜線エッジ上に中心が乗るような画素に対応する位置のビットと、該エッジの各々の始点上に中心が乗るような画素に対応する位置のビットとを前記第1の値に設定するステップと、前記第2プレイン上で前記第1の値に設定されたビットの各々について、Y軸に関する方向を決定するステップと、第3プレイン上で、前記第2プレイン上で設定されたビットに対応する位置のビットを設定するにあたり、前記方向決定ステップで前記第2プレイン上の設定されたビットの方向が第1の方向であることが示された場合にはビットを前記第1の値に設定し、前記方向決定ステップで前記第2プレイン上の設定されたビットの方向が第2の方向であることが示された場合にはビットを第2の値に設定するステップとを有する、描画方法。