特許

J-GLOBAL ID：200903081863995227

排水処理装置

発明者： 水野 健一郎
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 藤岡 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-216965
公開番号（公開出願番号）：特開平11-047559
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】 コンパクトで運転費の低い排水処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 紫外線ランプ6を有する反応槽2の後流側に限外膜濾過装置1の濾過孔径よりも大きい濾過孔径を有する精密膜濾過装置3が接続され、精密膜濾過装置3と上記反応槽2との間には循環流のための帰還路4が形成され、上記反応槽2内には上記精密濾過装置3の濾過孔径より大きい粒径の粉粒状の光触媒7が収容されていて、循環流が精密膜濾過装置3にてクロスフロー濾過され、光触媒が該循環流に乗って帰還路を経て上記反応槽2と精密膜濾過装置3の間を循環するようになっている。

請求項（抜粋）：

限外膜濾過装置と、該限外膜濾過装置の後流側に接続され紫外線ランプを有する反応槽とを備える微量有機物質を含有せる排水の処理のための装置において、反応槽の後流側に上記限外膜濾過装置の濾過孔径よりも大きい濾過孔径を有する精密膜濾過装置が接続され、該精密膜濾過装置と上記反応槽との間には循環流のための帰還路が形成され、上記反応槽内には上記精密濾過装置の濾過孔径より大きい粒径の粉粒状の光触媒が収容されていて、循環流が精密膜濾過装置にてクロスフロー濾過され、光触媒が該循環流に乗って帰還路を経て上記反応槽と精密膜濾過装置の間を循環するようになっていることを特徴とする排水処理装置。

IPC (3件)：

B01D 61/18 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ZAB

FI (3件)：

B01D 61/18 ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ZAB

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭63-042792
  
• 特開平2-298393
  
• 光酸化処理方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-201070   出願人：ライザー工業株式会社